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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
IST 2018-06-27
13:10
東京 東京理大森戸記念館 [ポスター講演]高紫外光感度・高飽和CMOSイメージセンサを用いたサブppmオーダのオゾン水対流のイメージング
村田真麻藤原康行青柳雄介黒田理人須川成利東北大
高紫外光感度・高飽和性能を有するCMOSイメージセンサを用いた紫外光吸光イメージングについて述べる.Si表面近傍に急峻な... [more] IST2018-34
pp.13-16
IST 2016-05-06
13:05
東京 東京理科大学 森戸記念館 [ポスター講演]高光耐性・広ダイナミックレンジCMOSイメージセンサを用いた紫外分光イメージング
藤原康行那須野悟史若嶋駿一楠原史章石井秀和黒田理人須川成利東北大
広光波長帯域・高光耐性PD,高感度・高飽和性能を有するLOFIC CMOSイメージセンサを用いた紫外分光イメージングにつ... [more] IST2016-24
pp.13-16
IST 2015-09-18
16:10
東京 機械振興会館 電荷電圧変換ゲイン240uV/e-、飽和電子数200ke-、感度波長帯域190-1000nmを有するCMOSイメージセンサ
那須野悟史若嶋駿一楠原史章黒田理人須川成利東北大
広光波長帯域・高信頼性PD技術,低容量FD形成技術,LOFIC技術,埋め込みチャネル技術を融合した画素ピッチ5.6 μm... [more] IST2015-55
pp.49-52
IST 2012-05-28
13:00
東京 埼玉大学東京ステーションカレッジ [ポスター講演]紫外光高感度・高信頼性を有する原子オーダー平坦Si表面を用いたフォトダイオードのドーパントプロファイル
中澤泰希黒田理人幸田安真須川成利東北大
紫外光に対して高感度かつ経時的な感度劣化を生じないセンサ実現のために,原子オーダー平坦化Si表面を用いたフォトダイオード... [more] IST2012-21
pp.19-22
IST 2011-11-18
15:50
東京 機械振興会館 [招待講演]原子レベル平坦化Si表面を用いた紫外光高感度・高信頼性フォトダイオード
黒田理人中澤泰希幸田安真半澤克彦須川成利東北大
紫外光に対する高い感度と,紫外光照射に対して高い安定性・長期信頼性を有する,原子レベル平坦化Si表面を用いたフォトダイオ... [more] IST2011-74
pp.25-31
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