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IEICE-SDM
(共催)
IST
(連催)
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2024-08-05
13:00
北海道
北海道大学 情報教育館３F スタジオ型多目的中講義室
（ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催）
［記念講演］半導体ナノシートにおける表面ラフネス散乱で決まる平均自由行程の量子論に基づく数値解析手法
○
岡田 丈
・
田中 一
・
森 伸也
（
阪大
）
半導体ナノシートでは，チャネルの薄膜化を進めるにつれて，界面ラフネス散乱が増大し，キャリア移動度が低下する．この現象を解...
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