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電子ディスプレイ研究会(IEICE-EID) [schedule] [select]
専門委員長 小南 裕子 (静岡大)
副委員長 木村 睦 (龍谷大), 志賀 智一 (電通大), 山口 留美子 (秋田大)
幹事 伊達 宗和 (NTT), 山口 雅浩 (東工大)
幹事補佐 新田 博幸 (ジャパンディスプレイ), 中田 充 (NHK), 野中 亮助 (東芝), 奥野 武志 (ファーウェイ)

情報ディスプレイ研究会(IDY) [schedule] [select]

シリコン材料・デバイス研究会(IEICE-SDM) [schedule] [select]
専門委員長 品田 高宏 (東北大)
副委員長 平野 博茂 (パナソニック・タワージャズ)
幹事 池田 浩也 (静岡大), 諸岡 哲 (東芝メモリー)
幹事補佐 森 貴洋 (産総研), 小林 伸彰 (日大)

日時 2018年12月25日(火) 11:00 - 16:00
議題 シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 
会場名 龍谷大学 響都ホール 校友会館 (京都アバンティ 9階) 
参加費に
ついて
この開催は「技報完全電子化」研究会です.参加費()についてはこちらをご覧ください

12月25日(火) 午前  薄膜デバイス
11:00 - 13:15
(1)
IEICE-SDM
11:00-11:15 プラスチック基板上のダブルゲートCu-MIC多結晶ゲルマニウム薄膜トランジスタ 内海大樹東北学院大)・北原邦紀塚田真也島根大)・鈴木仁志原 明人東北学院大
(2)
IDY
11:15-11:30 分子配向性ゲート絶縁膜を有するボトムコンタクト型OTFTの作製と、SAM修飾電極がOTFT特性に与える影響 濵地柱元飯村靖文農工大
(3)
IDY
11:30-11:45 Ga-Sn-O薄膜を用いた二層構造抵抗変化型メモリの開発 倉崎彩太杉崎澄生田中 遼木村 睦龍谷大
(4)
IDY
11:45-12:00 ミストCVD法によるGTO薄膜を用いたデバイス 滝下雄太杉崎澄夫龍谷大)・是友大地曲 勇作古田 守高知工科大)・松田時宜木村 睦龍谷大
  12:00-13:15 昼食 ( 75分 )
12月25日(火) 午後  薄膜プロセス
13:15 - 14:30
(5)
IEICE-SDM
13:15-13:30 Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果 秋田佳輝松尾直人兵庫県立大)・小濱和之伊藤和博阪大
(6)
IEICE-SDM
13:30-13:45 酸素雰囲気中で作製したAlOx/GeOx/a-Geスタック構造に対する原子状水素アニールの効果 大貫智史部家 彰松尾直人兵庫県立大
(7)
IEICE-SDM
13:45-14:00 Arクラスター照射によるDNA/Si-MOSFETに対する影響 中野 響松尾直人部家 彰山名一成高田忠雄盛谷浩右乾 徳夫佐藤 佑兵庫県立大)・佐藤 旦横山 新広島大
(8)
IDY
14:00-14:15 Ga-Sn-O TFT特性のUVアニール依存性解析 谷野健太高木 瞭松田時宜木村 睦龍谷大
  14:15-14:30 休憩 ( 15分 )
12月25日(火) 午後  新規アプリケーション
14:30 - 16:00
(9)
IDY
14:30-14:45 Ga-Sn-O薄膜の熱電特性及び構造のアニール依存性 池口 翼荒牧達也龍谷大)・梅田鉄馬上沼睦典奈良先端大)・是友大地曲 勇作古田 守高知工科大)・木村 睦龍谷大
(10)
IDY
14:45-15:00 ミストCVD法により作製したGa-Sn-O薄膜熱電変換素子の評価 荒牧達也野村竜生池口 翼松田時宜龍谷大)・梅田鉄馬上沼睦典奈良先端大)・木村 睦龍谷大
(11)
IDY
15:00-15:15 酸化物半導体を用いた多重構造のクロスポイント型シナプス 近藤厚志田中 遼津野拓海杉崎澄生生島恵典山川大樹柴山友輝新村純平木村 睦龍谷大
(12)
IDY
15:15-15:30 Ga-Sn-O薄膜を用いたニューラルネットワークの文字認識 新村純平生島恵典田中 遼山川大樹近藤厚志柴山友輝津野拓海龍谷大)・中島康彦奈良先端大)・木村 睦龍谷大
(13)
IDY
15:30-15:45 脳型集積システムのためのIGZO薄膜シナプス 柴山友輝山川大樹生島恵典杉崎澄生木村 睦龍谷大)・中島康彦奈良先端大
(14)
IDY
15:45-16:00 Bi3.25La0.75Ti3O12薄膜をシナプスに用いたニューラルネットワーク 宮部雄太新村純平吉田 誉小川功人龍谷大)・羽賀健一徳光永輔北陸先端大)・木村 睦龍谷大

問合先と今後の予定
IEICE-EID 電子ディスプレイ研究会(IEICE-EID)   [今後の予定はこちら]
問合先  
IDY 情報ディスプレイ研究会(IDY)   [今後の予定はこちら]
問合先  
IEICE-SDM シリコン材料・デバイス研究会(IEICE-SDM)   [今後の予定はこちら]
問合先 黒田 理人(東北大)
Tel 022-795-4833 Fax 022-795-4834
E--mail: e3 


Last modified: 2018-10-23 13:16:09


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