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講演抄録／キーワード
講演名
2024-11-01 11:30
アモルファスFe-B-N合金膜の化学結合状態制御による低磁歪化
○
磯貝直希
・
佐藤公泰
・
今村光佑
・
川井哲郎
・
大竹 充
（
横浜国大
）
抄録
（和）
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（英）
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キーワード
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
IEICE-MRIS IEICE-CPM MMS
開催期間
2024-10-31 - 2024-11-01
開催地（和）
信州大学＋オンライン開催
開催地（英）
Shinshu Univ.
テーマ（和）
スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス＋一般
テーマ（英）
Spintronics, Solid State Memory, Functional material, Thin film process, Material, Devices, etc.
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-MRIS
会議コード
2024-10-MRIS-CPM-MMS
本文の言語
日本語
タイトル（和）
アモルファスFe-B-N合金膜の化学結合状態制御による低磁歪化
サブタイトル（和）
タイトル（英）
Reduction in Magnetostriction of Amorphous Fe-B-N Alloy Film by Chemical Bond State Control
サブタイトル（英）
キーワード(1)（和/英）
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キーワード(2)（和/英）
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キーワード(4)（和/英）
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キーワード(7)（和/英）
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キーワード(8)（和/英）
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ）
磯貝 直希
/
Naoki Isogai
/
イソガイ ナオキ
第1著者 所属（和/英）
横浜国立大学
(略称：
横浜国大
)
Yokohama National University
(略称：
Yokohama National Univ.
)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ）
佐藤 公泰
/
Takayasu Sato
/
サトウ タカヤス
第2著者 所属（和/英）
横浜国立大学
(略称：
横浜国大
)
Yokohama National University
(略称：
Yokohama National Univ.
)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ）
今村 光佑
/
Kosuke Imamura
/
イマムラ コウスケ
第3著者 所属（和/英）
横浜国立大学
(略称：
横浜国大
)
Yokohama National University
(略称：
Yokohama National Univ.
)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ）
川井 哲郎
/
Tetsuroh Kawai
/
カワイ テツロウ
第4著者 所属（和/英）
横浜国立大学
(略称：
横浜国大
)
Yokohama National University
(略称：
Yokohama National Univ.
)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ）
大竹 充
/
Mitsuru Ohtake
/
オオタケ ミツル
第5著者 所属（和/英）
横浜国立大学
(略称：
横浜国大
)
Yokohama National University
(略称：
Yokohama National Univ.
)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第6著者 所属（和/英）
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(略称： )
第7著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第7著者 所属（和/英）
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(略称： )
第8著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第8著者 所属（和/英）
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第9著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第9著者 所属（和/英）
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第10著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第10著者 所属（和/英）
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第11著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第11著者 所属（和/英）
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第12著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第12著者 所属（和/英）
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第13著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第13著者 所属（和/英）
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第14著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第14著者 所属（和/英）
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第15著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第15著者 所属（和/英）
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第16著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第16著者 所属（和/英）
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第17著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第17著者 所属（和/英）
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第18著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第18著者 所属（和/英）
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第19著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第19著者 所属（和/英）
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第20著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第20著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
講演者
第1著者
発表日時
2024-11-01 11:30:00
発表時間
20分
申込先研究会
IEICE-MRIS
資料番号
巻番号（vol）
vol.
号番号（no）
ページ範囲
ページ数
発行日
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