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講演抄録/キーワード
講演名 2024-10-31 14:00
低温成膜したSiOx膜の特性に及ぼすスパッタ電力の影響
新出航大佐藤 勝武山真弓北見工大
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IEICE-MRIS IEICE-CPM MMS  
開催期間 2024-10-31 - 2024-11-01 
開催地(和) 信州大学+オンライン開催 
開催地(英) Shinshu Univ. 
テーマ(和) スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス+一般 
テーマ(英) Spintronics, Solid State Memory, Functional material, Thin film process, Material, Devices, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-CPM 
会議コード 2024-10-MRIS-CPM-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 低温成膜したSiOx膜の特性に及ぼすスパッタ電力の影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effects of Sputtering Power on Characterization of SiOx Film Deposited at Low Temperatures 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 新出 航大 / Kota Niide / ニイデ コウタ
第1著者 所属(和/英) 北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 勝 / Masaru Sato / サトウ マサル
第2著者 所属(和/英) 北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama / タケヤマ マユミ
第3著者 所属(和/英) 北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2024-10-31 14:00:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 IEICE-CPM 
資料番号  
巻番号(vol) vol.48 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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