研究会情報 |
研究会 |
IEICE-CPM IEICE-MRIS IEICE-OME MMS |
開催期間 |
2023-10-26 - 2023-10-27 |
開催地(和) |
新潟大学 駅南キャンパスときめいと |
開催地(英) |
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テーマ(和) |
スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス+一般 |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
IEICE-CPM |
会議コード |
2023-10-MRIS-CPM-MMS-OME |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
低温成膜されたZrO2膜の特性評価 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Evaluation of characterization of ZrO2 film deposited by low-temperature process |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama / タケヤマ マユミ |
第1著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Technol.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
佐藤 勝 / Masaru Sato / サトウ マサル |
第2著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Technol.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第3著者 所属(和/英) |
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第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2023-10-27 11:50:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
IEICE-CPM |
資料番号 |
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巻番号(vol) |
vol.47 |
号番号(no) |
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ページ範囲 |
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ページ数 |
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発行日 |
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