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講演抄録／キーワード
講演名 2022-08-10 09:00
［招待講演］ミスマッチ補償技術を用いた分散DPDによる39GHz帯CMOS双方向ドハティフェーズドアレイ無線機
○李　政・Jian Pang・Yi Zhang・山崎雄大・Qiaoyu Wang・Peng Luo・Weichu Chen・Yijing Liao・Minzhe Tang・Zhengyan Guo・Yun Wang・Xi Fu・Dongwon You（東工大）・大島直樹・堀　真一・國弘和明（NEC）・白根篤史・岡田健一（東工大）
抄録 （和） 本稿では、双方向ドハティ電力増幅器を用いた高効率39GHz帯CMOS無線送受信機システムを提案する。各アレイ素子のPVTばらつきによる性能劣化を避けるため、あらかじめばらつき補償を適用した上で、DPDを用いる、ミスマッチ補償型分散 DPDを提案する。提案されたミスマッチ補償技術を適用した後、分散DPDで測定された 64-QAM OFDMAモードEVMは-22.4dBから-25dBに改善でき、ACLRは-28.7dBcから-32.1dBcに改善できた。 
（英） This work demonstrates a 39-GHz CMOS phased-array beamformer with the bi-directional Doherty PA-LNA. An inter-element mismatch compensation technique is introduced for improving the shared-LUT DPD performance over the PVT variations. By utilizing the proposed mismatch compensation, the measured 64-QAM OFDMA-mode EVM and ACLR with the shared-LUT DPD are improved from −22.4dB to −25.0dB and from −28.7dBc to −32.1dBc, respectively.
キーワード （和） CMOS / ３９GHｚ帯 / ５G New Radio （NR） / フェーズドアレイ / ドハティ / DPD / /  
（英） CMOS / 39GHz / 5G New Radio (NR) / phased array / Doherty / DPD / /  
文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-ICD IEICE-SDM IST  
開催期間 2022-08-08 - 2022-08-10 
開催地（和） オンライン開催 
開催地（英） On-line 
テーマ（和） アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 
テーマ（英） Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low Voltage/Low Power Techniques, Novel Devices/Circuits, and the Applications 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-ICD 
会議コード 2022-08-ICD-SDM-IST 
本文の言語 英語（日本語タイトルあり） 
タイトル（和） ミスマッチ補償技術を用いた分散DPDによる39GHz帯CMOS双方向ドハティフェーズドアレイ無線機 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） A 39-GHz CMOS Bi-Directional Doherty Phased-Array Beamformer Using Shared-LUT DPD with Inter-Element Mismatch Compensation Technique for 5G Base-Station 
サブタイトル（英）  
キーワード(1)（和/英） CMOS / CMOS  
キーワード(2)（和/英） ３９GHｚ帯 / 39GHz  
キーワード(3)（和/英） ５G New Radio （NR） / 5G New Radio (NR)  
キーワード(4)（和/英） フェーズドアレイ / phased array  
キーワード(5)（和/英） ドハティ / Doherty  
キーワード(6)（和/英） DPD / DPD  
キーワード(7)（和/英） /  
キーワード(8)（和/英） /  
第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 李 政 / Zheng Li / リ ゼン
第1著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） Jian Pang / Jian Pang /
第2著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） Yi Zhang / Yi Zhang /
第3著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 山崎 雄大 / Yudai Yamazaki / ヤマザキ ユダイ
第4著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） Qiaoyu Wang / Qiaoyu Wang /
第5著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ） Peng Luo / Peng Luo /
第6著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ） Weichu Chen / Weichu Chen /
第7著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第8著者 氏名（和/英/ヨミ） Yijing Liao / Yijing Liao /
第8著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第9著者 氏名（和/英/ヨミ） Minzhe Tang / Minzhe Tang /
第9著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第10著者 氏名（和/英/ヨミ） Zhengyan Guo / Zhengyan Guo /
第10著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第11著者 氏名（和/英/ヨミ） Yun Wang / Yun Wang /
第11著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第12著者 氏名（和/英/ヨミ） Xi Fu / Xi Fu /
第12著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第13著者 氏名（和/英/ヨミ） Dongwon You / Dongwon You /
第13著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第14著者 氏名（和/英/ヨミ） 大島 直樹 / Naoki Oshima / オオシマ ナオキ
第14著者 所属（和/英） 日本電気株式会社 (略称： NEC)
NEC Corporation (略称： NEC)
第15著者 氏名（和/英/ヨミ） 堀 真一 / Shinichi Hori / ホリ シンイチ
第15著者 所属（和/英） 日本電気株式会社 (略称： NEC)
NEC Corporation (略称： NEC)
第16著者 氏名（和/英/ヨミ） 國弘 和明 / Kazuaki Kunihiro / クニヒロ カズアキ
第16著者 所属（和/英） 日本電気株式会社 (略称： NEC)
NEC Corporation (略称： NEC)
第17著者 氏名（和/英/ヨミ） 白根 篤史 / Atsushi Shirane / シラネ アツシ
第17著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第18著者 氏名（和/英/ヨミ） 岡田 健一 / Kenichi Okada / オカダ ケンイチ
第18著者 所属（和/英） 東京工業大学 (略称： 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech)
第19著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第19著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第20著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第20著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
講演者 第1著者 
発表日時 2022-08-10 09:00:00 
発表時間 45分 
申込先研究会 IEICE-ICD 
資料番号  
巻番号（vol） vol.46 
号番号（no）  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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