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講演抄録／キーワード
講演名
2022-08-09 11:05
［招待講演］極低温動作MOSFETのクーロン散乱移動度に対するバンド端準位の影響
○
岡 博史
・
稲葉 工
・
飯塚将太
・
浅井栄大
・
加藤公彦
・
森 貴洋
（
産総研
）
抄録
（和）
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（英）
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キーワード
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
IEICE-ICD IEICE-SDM IST
開催期間
2022-08-08 - 2022-08-10
開催地（和）
オンライン開催
開催地（英）
On-line
テーマ（和）
アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用
テーマ（英）
Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low Voltage/Low Power Techniques, Novel Devices/Circuits, and the Applications
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-SDM
会議コード
2022-08-ICD-SDM-IST
本文の言語
日本語
タイトル（和）
極低温動作MOSFETのクーロン散乱移動度に対するバンド端準位の影響
サブタイトル（和）
タイトル（英）
Effect of Conduction Band Edge States on Coulomb-Limiting Electron Mobility in Cryogenic MOSFET Operation
サブタイトル（英）
キーワード(1)（和/英）
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キーワード(2)（和/英）
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キーワード(3)（和/英）
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キーワード(4)（和/英）
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キーワード(5)（和/英）
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キーワード(6)（和/英）
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キーワード(7)（和/英）
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キーワード(8)（和/英）
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ）
岡 博史
/
Hiroshi Oka
/
オカ ヒロシ
第1著者 所属（和/英）
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ）
稲葉 工
/
Takumi Inaba
/
イナバ タクミ
第2著者 所属（和/英）
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ）
飯塚 将太
/
Shota Iizuka
/
イイヅカ ショウタ
第3著者 所属（和/英）
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ）
浅井 栄大
/
Hidehiro Asai
/
アサイ ヒデヒロ
第4著者 所属（和/英）
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ）
加藤 公彦
/
Kimihiko Kato
/
カトウ キミヒコ
第5著者 所属（和/英）
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ）
森 貴洋
/
Takahiro Mori
/
モリ タカヒロ
第6著者 所属（和/英）
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第7著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第8著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第8著者 所属（和/英）
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第9著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第9著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第10著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第10著者 所属（和/英）
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第11著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第11著者 所属（和/英）
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第12著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第12著者 所属（和/英）
(略称： )
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第13著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第13著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第14著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第14著者 所属（和/英）
(略称： )
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第15著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第15著者 所属（和/英）
(略称： )
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第16著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第16著者 所属（和/英）
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(略称： )
第17著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第17著者 所属（和/英）
(略称： )
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第18著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第18著者 所属（和/英）
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第19著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第19著者 所属（和/英）
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第20著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第20著者 所属（和/英）
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(略称： )
講演者
第1著者
発表日時
2022-08-09 11:05:00
発表時間
45分
申込先研究会
IEICE-SDM
資料番号
巻番号（vol）
vol.46
号番号（no）
ページ範囲
ページ数
発行日
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