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講演抄録／キーワード
講演名
2020-08-07 09:30
［招待講演］シリコンスピン量子ビットのコヒーレンス時間改善に向けたクライオCMOSにおける低周波ノイズ発生源の解明
○
岡 博史
・
松川 貴
・
加藤公彦
・
飯塚将太
・
水林 亘
・
遠藤和彦
・
安田哲二
・
森 貴洋
（
産総研
）
抄録
（和）
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（英）
(Not available yet)
キーワード
（和）
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文献情報
映情学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
IEICE-ICD IEICE-SDM IST
開催期間
2020-08-06 - 2020-08-07
開催地（和）
オンライン開催
開催地（英）
Online
テーマ（和）
アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用
テーマ（英）
Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low Voltage/Low Power Techniques, Novel Devices/Circuits, and the Applications
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IEICE-SDM
会議コード
2020-08-ICD-SDM-IST
本文の言語
日本語
タイトル（和）
シリコンスピン量子ビットのコヒーレンス時間改善に向けたクライオCMOSにおける低周波ノイズ発生源の解明
サブタイトル（和）
タイトル（英）
Understanding the Origin of Low-frequency Noise in Cryo-CMOS Toward Long-coherence-time Si Spin Qubit
サブタイトル（英）
キーワード(1)（和/英）
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キーワード(2)（和/英）
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キーワード(3)（和/英）
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キーワード(4)（和/英）
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キーワード(5)（和/英）
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キーワード(6)（和/英）
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キーワード(7)（和/英）
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キーワード(8)（和/英）
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ）
岡 博史
/
Hiroshi Oka
/
オカ ヒロシ
第1著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ）
松川 貴
/
Takashi Matsukawa
/
マツカワ タカシ
第2著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ）
加藤 公彦
/
Kimihiko Kato
/
カトウ キミヒコ
第3著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ）
飯塚 将太
/
Shota Iizuka
/
イイヅカ ショウタ
第4著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ）
水林 亘
/
Wataru Mizubayashi
/
ミズバヤシ ワタル
第5著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ）
遠藤 和彦
/
Kazuhiko Endo
/
エンドウ カズヒコ
第6著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ）
安田 哲二
/
Tetsuji Yasuda
/
ヤスダ テツジ
第7著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第8著者 氏名（和/英/ヨミ）
森 貴洋
/
Takahiro Mori
/
モリ タカヒロ
第8著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所
(略称：
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称：
AIST
)
第9著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第9著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第10著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第10著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第11著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第11著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第12著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第12著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第13著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第13著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第14著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第14著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第15著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第15著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第16著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第16著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第17著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第17著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第18著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第18著者 所属（和/英）
(略称： )
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第19著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第19著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第20著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第20著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
講演者
第1著者
発表日時
2020-08-07 09:30:00
発表時間
45分
申込先研究会
IEICE-SDM
資料番号
巻番号（vol）
vol.44
号番号（no）
ページ範囲
ページ数
発行日
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