| 研究会情報 |
| 研究会 |
IEICE-SDM IEICE-EID IDY |
| 開催期間 |
2019-12-24 - 2019-12-24 |
| 開催地（和） |
奈良先端大(物質領域 大講義室） |
| 開催地（英） |
NAIST |
| テーマ（和） |
半導体材料プロセス・デバイス研究会 |
| テーマ（英） |
Semiconductor Material Process and Device Meeting |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
IDY |
| 会議コード |
2019-12-SDM-EID-IDY |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
2段階堆積プロセスを用いた(Bi,La)4Ti3O12薄膜の結晶成長 |
| サブタイトル（和） |
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| タイトル（英） |
Crystal growth of (Bi, La) 4Ti3O12 thin film using a two-step deposition process |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
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| キーワード(2)（和/英） |
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| キーワード(3)（和/英） |
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| キーワード(4)（和/英） |
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| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
吉田 誉 / Homare Yoshida / ヨシダ ホマレ |
| 第1著者 所属（和/英） |
龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
石崎 勇真 / Yuma Ishisaki / イシサキ ユウマ |
| 第2著者 所属（和/英） |
龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
宮部 雄太 / Yuta Miyabe / ミヤベ ユウタ |
| 第3著者 所属（和/英） |
龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
木村 睦 / Mutsumi Kimura / キムラ ムツミ |
| 第4著者 所属（和/英） |
龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第5著者 所属（和/英） |
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| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第6著者 所属（和/英） |
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| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第7著者 所属（和/英） |
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| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第8著者 所属（和/英） |
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| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第9著者 所属（和/英） |
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| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第10著者 所属（和/英） |
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| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第11著者 所属（和/英） |
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| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第12著者 所属（和/英） |
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| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第13著者 所属（和/英） |
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| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第14著者 所属（和/英） |
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| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第15著者 所属（和/英） |
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| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第16著者 所属（和/英） |
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| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第17著者 所属（和/英） |
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| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第18著者 所属（和/英） |
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| 第19著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第19著者 所属（和/英） |
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| 第20著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第20著者 所属（和/英） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2019-12-24 16:20:00 |
| 発表時間 |
20分 |
| 申込先研究会 |
IDY |
| 資料番号 |
IDY2019-73 |
| 巻番号（vol） |
vol.43 |
| 号番号（no） |
no.44 |
| ページ範囲 |
pp.25-28 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2019-12-17 (IDY) |