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講演抄録/キーワード
講演名 2019-12-24 16:40
Ga-Sn-O薄膜を用いた抵抗変化型メモリのメモリスタ特性の電極依存性
橋本快人倉崎彩太田中 遼杉崎澄生角田 涼木村 睦龍谷大
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報, vol. 43, no. 44, IDY2019-74, pp. 29-32, 2019年12月.
資料番号 IDY2019-74 
発行日 2019-12-17 (IDY) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893    Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IEICE-SDM IEICE-EID IDY  
開催期間 2019-12-24 - 2019-12-24 
開催地(和) 奈良先端大(物質領域 大講義室) 
開催地(英) NAIST 
テーマ(和) 半導体材料プロセス・デバイス研究会 
テーマ(英) Semiconductor Material Process and Device Meeting 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IDY 
会議コード 2019-12-SDM-EID-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Ga-Sn-O薄膜を用いた抵抗変化型メモリのメモリスタ特性の電極依存性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Electrode dependence of memristor characteristic of Resistive Random Access Memory using Ga-Sn-O thin film 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 橋本 快人 / Kaito Hashimoto / ハシモト カイト
第1著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 倉崎 彩太 / Ayata Kurasaki / クラサキ アヤタ
第2著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 遼 / Ryo Tanaka / タナカ リョウ
第3著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 杉崎 澄生 / Sumio Sugisaki / スギサキ スミオ
第4著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 角田 涼 / Ryo Sumida / スミダ リョウ
第5著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 睦 / Mutsumi Kimura / キムラ ムツミ
第6著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2019-12-24 16:40:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 IDY 
資料番号 IDY2019-74 
巻番号(vol) vol.43 
号番号(no) no.44 
ページ範囲 pp.29-32 
ページ数
発行日 2019-12-17 (IDY) 


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