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講演抄録／キーワード
講演名
2019-03-22 11:20
2.74μmセルで飽和信号1万e-を達成した裏面照射型画素内メモリ保持方式グローバルシャッタCMOSイメージセンサ
熊谷至通
・○
吉田遼人
・
大澤尚幸
・
池田晴美
・
山下和芳
・
阿部高志
・
工藤成貴
（
SSS
）・
山根淳二
・
出木場 透
・
納土晋一郎
・
小野雄馬
・
国武幸史
・
佐藤 充
・
佐藤尚之
・
榎本貴幸
（
SCK
）・
中澤圭一
・
森 裕之
・
舘下八州志
・
大野圭一
（
SSS
）
抄録
（和）
(まだ登録されていません)
（英）
(Not available yet)
キーワード
（和）
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（英）
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文献情報
映情学技報, vol. 43, no. 11, IST2019-16, pp. 21-25, 2019年3月.
資料番号
IST2019-16
発行日
2019-03-15 (IST)
ISSN
Print edition: ISSN 1342-6893 Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会
IST
開催期間
2019-03-22 - 2019-03-22
開催地（和）
機械振興会館
開催地（英）
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg.
テーマ（和）
固体撮像技術および一般
テーマ（英）
Image Sensors, etc.
講演論文情報の詳細
申込み研究会
IST
会議コード
2019-03-IST
本文の言語
日本語
タイトル（和）
2.74μmセルで飽和信号1万e-を達成した裏面照射型画素内メモリ保持方式グローバルシャッタCMOSイメージセンサ
サブタイトル（和）
タイトル（英）
Back-Illuminated 2.74 μm-Pixel-Pitch Global Shutter CMOS Image Sensor with Charge-Domain Memory Achieving a 10k e- Saturation Signal
サブタイトル（英）
キーワード(1)（和/英）
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キーワード(2)（和/英）
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キーワード(3)（和/英）
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キーワード(4)（和/英）
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キーワード(5)（和/英）
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キーワード(6)（和/英）
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キーワード(7)（和/英）
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キーワード(8)（和/英）
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ）
熊谷 至通
/
Yoshimichi Kumagai
/
クマガイ ヨシミチ
第1著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ）
吉田 遼人
/
Ryoto Yoshita
/
ヨシタ リョウト
第2著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ）
大澤 尚幸
/
Naoyuki Osawa
/
オオサワ ナオユキ
第3著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ）
池田 晴美
/
Harumi Ikeda
/
イケダ ハルミ
第4著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ）
山下 和芳
/
Kazuyoshi Yamashita
/
ヤマシタ カズヨシ
第5著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ）
阿部 高志
/
Takashi Abe
/
アベ タカシ
第6著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ）
工藤 成貴
/
Shigetaka Kudoh
/
クドウ シゲタカ
第7著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第8著者 氏名（和/英/ヨミ）
山根 淳二
/
Junji Yamane
/
ヤマネ ジュンジ
第8著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社
(略称：
SCK
)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation
(略称：
SCK
)
第9著者 氏名（和/英/ヨミ）
出木場 透
/
Tooru Idekoba
/
イデコバ トオル
第9著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社
(略称：
SCK
)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation
(略称：
SCK
)
第10著者 氏名（和/英/ヨミ）
納土 晋一郎
/
Shinichiro Nohdo
/
ノウド シンイチロウ
第10著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社
(略称：
SCK
)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation
(略称：
SCK
)
第11著者 氏名（和/英/ヨミ）
小野 雄馬
/
Yuma Ono
/
オノ ユウマ
第11著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社
(略称：
SCK
)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation
(略称：
SCK
)
第12著者 氏名（和/英/ヨミ）
国武 幸史
/
Sachihito Kunitake
/
クニタケ サチヒロ
第12著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社
(略称：
SCK
)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation
(略称：
SCK
)
第13著者 氏名（和/英/ヨミ）
佐藤 充
/
Mitsuru Sato
/
サトウ ミツル
第13著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社
(略称：
SCK
)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation
(略称：
SCK
)
第14著者 氏名（和/英/ヨミ）
佐藤 尚之
/
Naoyuki Sato
/
サトウ ナオユキ
第14著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社
(略称：
SCK
)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation
(略称：
SCK
)
第15著者 氏名（和/英/ヨミ）
榎本 貴幸
/
Takayuki Enomoto
/
エノモト タカユキ
第15著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターマニュファクチャリング株式会社
(略称：
SCK
)
Sony Semiconductor Manufacturing Corporation
(略称：
SCK
)
第16著者 氏名（和/英/ヨミ）
中澤 圭一
/
Keiichi Nakazawa
/
ナカザワ ケイイチ
第16著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第17著者 氏名（和/英/ヨミ）
森 裕之
/
Hiroyuki Mori
/
モリ ヒロユキ
第17著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第18著者 氏名（和/英/ヨミ）
舘下 八州志
/
Yasushi Tateshita
/
タテシタ ヤスシ
第18著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第19著者 氏名（和/英/ヨミ）
大野 圭一
/
Keiichi Ohno
/
オウノ ケイイチ
第19著者 所属（和/英）
ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社
(略称：
SSS
)
Sony Semiconductor Solutions Corporation
(略称：
SSS
)
第20著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第20著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第21著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第21著者 所属（和/英）
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(略称： )
第22著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第22著者 所属（和/英）
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(略称： )
第23著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第23著者 所属（和/英）
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第24著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第24著者 所属（和/英）
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第25著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第25著者 所属（和/英）
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(略称： )
第26著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第26著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第27著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第27著者 所属（和/英）
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第28著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第28著者 所属（和/英）
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第29著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第29著者 所属（和/英）
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第30著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第30著者 所属（和/英）
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第31著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第31著者 所属（和/英）
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(略称： )
第32著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第32著者 所属（和/英）
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(略称： )
第33著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第33著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第34著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第34著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第35著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第35著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第36著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第36著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
講演者
第2著者
発表日時
2019-03-22 11:20:00
発表時間
30分
申込先研究会
IST
資料番号
IST2019-16
巻番号（vol）
vol.43
号番号（no）
no.11
ページ範囲
pp.21-25
ページ数
5
発行日
2019-03-15 (IST)
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