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講演抄録/キーワード
講演名 2019-03-07 13:30
[依頼講演]RtoR直描露光装置を用いた有機トランジスタ湿式作製プロセスの開発
小泉翔平堀 正和林田洋祐内藤一夫川端誠司石垣雄大中積 誠岩堀恒一郎鬼頭義昭ニコン
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報, vol. 43, no. 7, IDY2019-24, pp. 7-9, 2019年3月.
資料番号 IDY2019-24 
発行日 2019-02-28 (IDY) 
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893    Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IDY SID-JC  
開催期間 2019-03-07 - 2019-03-07 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) ディスプレイ技術シンポジウム2019 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IDY 
会議コード 2019-03-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) RtoR直描露光装置を用いた有機トランジスタ湿式作製プロセスの開発 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Development of organic transistor wet fabrication process using RtoR direct imaging exposure system 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 小泉 翔平 / Shohei Koizumi / コイズミ ショウヘイ
第1著者 所属(和/英) 株式会社ニコン (略称: ニコン)
NIKON corporation (略称: NIKON)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 堀 正和 / Masakazu Hori / ホリ マサカズ
第2著者 所属(和/英) 株式会社ニコン (略称: ニコン)
NIKON corporation (略称: NIKON)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 林田 洋祐 / Yosuke Hayashida / ハヤシダ ヨウスケ
第3著者 所属(和/英) 株式会社ニコン (略称: ニコン)
NIKON corporation (略称: NIKON)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 内藤 一夫 / Kazuo Naito / ナイトウ カズオ
第4著者 所属(和/英) 株式会社ニコン (略称: ニコン)
NIKON corporation (略称: NIKON)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 川端 誠司 / Seiji Kawabata / カワバタ セイジ
第5著者 所属(和/英) 株式会社ニコン (略称: ニコン)
NIKON corporation (略称: NIKON)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 石垣 雄大 / Yudai Ishigaki / イシガキ ユウダイ
第6著者 所属(和/英) 株式会社ニコン (略称: ニコン)
NIKON corporation (略称: NIKON)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 中積 誠 / Makoto Nakazumi / ナカズミ マコト
第7著者 所属(和/英) 株式会社ニコン (略称: ニコン)
NIKON corporation (略称: NIKON)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩堀 恒一郎 / Koichiro Iwahori / イワホリ コウイチロウ
第8著者 所属(和/英) 株式会社ニコン (略称: ニコン)
NIKON corporation (略称: NIKON)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 鬼頭 義昭 / Yoshiaki Kito / キトウ ヨシアキ
第9著者 所属(和/英) 株式会社ニコン (略称: ニコン)
NIKON corporation (略称: NIKON)
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講演者 第1著者 
発表日時 2019-03-07 13:30:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 IDY 
資料番号 IDY2019-24 
巻番号(vol) vol.43 
号番号(no) no.7 
ページ範囲 pp.7-9 
ページ数
発行日 2019-02-28 (IDY) 


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