| 研究会情報 |
| 研究会 |
IEICE-EID IEICE-SDM IDY |
| 開催期間 |
2018-12-25 - 2018-12-25 |
| 開催地（和） |
龍谷大学 響都ホール 校友会館 |
| 開催地（英） |
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| テーマ（和） |
シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 |
| テーマ（英） |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
IDY |
| 会議コード |
2018-12-EID-SDM-IDY |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
Ga-Sn-O薄膜を用いた二層構造抵抗変化型メモリの開発 |
| サブタイトル（和） |
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| タイトル（英） |
Development of two-layered ReRAM using Ga-Sn-O thin film |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
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| キーワード(2)（和/英） |
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| キーワード(3)（和/英） |
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| キーワード(4)（和/英） |
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| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
倉崎 彩太 / Ayata Kurasaki / クラサキ アヤタ |
| 第1著者 所属（和/英） |
龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
杉崎 澄生 / Smio Sugisaki / スギサキ スミオ |
| 第2著者 所属（和/英） |
龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
田中 遼 / Ryo Tanaka / タナカ リョウ |
| 第3著者 所属（和/英） |
龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
木村 睦 / Mutsumi Kimura / キムラ ムツミ |
| 第4著者 所属（和/英） |
龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第5著者 所属（和/英） |
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| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第6著者 所属（和/英） |
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| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第7著者 所属（和/英） |
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| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第8著者 所属（和/英） |
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| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第9著者 所属（和/英） |
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| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第10著者 所属（和/英） |
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| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第11著者 所属（和/英） |
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| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第12著者 所属（和/英） |
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| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第13著者 所属（和/英） |
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| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第14著者 所属（和/英） |
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| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第15著者 所属（和/英） |
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| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第16著者 所属（和/英） |
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| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第17著者 所属（和/英） |
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| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第18著者 所属（和/英） |
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| 第19著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第19著者 所属（和/英） |
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| 第20著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第20著者 所属（和/英） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2018-12-25 11:30:00 |
| 発表時間 |
15分 |
| 申込先研究会 |
IDY |
| 資料番号 |
IDY2018-56 |
| 巻番号（vol） |
vol.42 |
| 号番号（no） |
no.45 |
| ページ範囲 |
pp.9-12 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2018-12-18 (IDY) |