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講演抄録/キーワード
講演名 2018-12-25 13:15
Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果
秋田佳輝松尾直人兵庫県立大)・小濱和之伊藤和博阪大
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-EID IEICE-SDM IDY  
開催期間 2018-12-25 - 2018-12-25 
開催地(和) 龍谷大学 響都ホール 校友会館 
開催地(英)  
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-SDM 
会議コード 2018-12-EID-SDM-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effects of SiOx Capping Film on Crystallization of Ge Film for Flash Lamp Annealing 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 秋田 佳輝 / Yoshiki akita / アキタ ヨシキ
第1著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 松尾 直人 / Naoto Matsuo / マツオ ナオト
第2著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 小濱 和之 / Kazuyuki Kohama / コハマ カズユキ
第3著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 和博 / Kazuhiro Ito / イトウ カズヒロ
第4著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-12-25 13:15:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 IEICE-SDM 
資料番号  
巻番号(vol) vol.42 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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