研究会情報 |
研究会 |
IEICE-EID IEICE-SDM IDY |
開催期間 |
2018-12-25 - 2018-12-25 |
開催地(和) |
龍谷大学 響都ホール 校友会館 |
開催地(英) |
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テーマ(和) |
シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
IEICE-SDM |
会議コード |
2018-12-EID-SDM-IDY |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Effects of SiOx Capping Film on Crystallization of Ge Film for Flash Lamp Annealing |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
秋田 佳輝 / Yoshiki akita / アキタ ヨシキ |
第1著者 所属(和/英) |
兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
松尾 直人 / Naoto Matsuo / マツオ ナオト |
第2著者 所属(和/英) |
兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ. of Hyogo) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小濱 和之 / Kazuyuki Kohama / コハマ カズユキ |
第3著者 所属(和/英) |
大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
伊藤 和博 / Kazuhiro Ito / イトウ カズヒロ |
第4著者 所属(和/英) |
大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 所属(和/英) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2018-12-25 13:15:00 |
発表時間 |
15分 |
申込先研究会 |
IEICE-SDM |
資料番号 |
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巻番号(vol) |
vol.42 |
号番号(no) |
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ページ範囲 |
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ページ数 |
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発行日 |
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