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講演抄録／キーワード
講演名 2018-01-26 09:40
ミストCVD法によるZnO薄膜の形成と発光特性
○中田克弥・菅野剛志・齋藤嘉騎・佐伯祥吾・山路郷史・深田晴己・山口敦史（金沢工大）
抄録 （和） (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-EID IDY IEIJ-SSL SID-JC IEE-EDD  
開催期間 2018-01-25 - 2018-01-26 
開催地（和） 静岡大学 浜松キャンパス 
開催地（英） Shizuoka Univ., Hamamatsu 
テーマ（和） 発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 
テーマ（英）  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-EID 
会議コード 2018-01-EID-IDY-SSL-JC-EDD 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） ミストCVD法によるZnO薄膜の形成と発光特性 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） Luminescent properties in ZnO thin films prepared by mist-CVD method 
サブタイトル（英）  
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 中田 克弥 / Katsuya Nakada / ナカダ カツヤ
第1著者 所属（和/英） 金沢工業大学 (略称： 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） 菅野 剛志 / Takeshi Kanno / カンノ タケシ
第2著者 所属（和/英） 金沢工業大学 (略称： 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 齋藤 嘉騎 / Yoshiki Saito / サイトウ ヨシキ
第3著者 所属（和/英） 金沢工業大学 (略称： 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 佐伯 祥吾 / Shogo Saeki / サエキ ショウゴ
第4著者 所属（和/英） 金沢工業大学 (略称： 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） 山路 郷史 / Satoshi Yamaji / ヤマジ サトシ
第5著者 所属（和/英） 金沢工業大学 (略称： 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ） 深田 晴己 / Haruki Fukada / フカダ ハルキ
第6著者 所属（和/英） 金沢工業大学 (略称： 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ） 山口 敦史 / Atsushi Yamaguchi / ヤマグチ アツシ
第7著者 所属（和/英） 金沢工業大学 (略称： 金沢工大)
Kanazawa Institute of Technology (略称： KIT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-01-26 09:40:00 
発表時間 10分 
申込先研究会 IEICE-EID 
資料番号  
巻番号（vol） vol.42 
号番号（no）  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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