| 講演抄録／キーワード |
| 講演名 |
2017-02-24 15:55
［招待講演］独自の塗布型材料を用いた高信頼性酸化物TFT
○平野由希子・草柳嶺秀・新江定憲・早乙女遼一・曽根雄司・松本真二・中村有希・安藤友一・植田尚之・山田勝幸（リコー） |
| 抄録 |
（和） |
独自組成の酸化物材料とそのインクを開発しTFTを作製した。半導体層にはドープ型の酸化物半導体を、ゲート絶縁膜にはhigh-k酸化物絶縁体を、保護層にはバリア性のある酸化物絶縁体を用い、これらの層を全てインクの塗布と焼成によって形成した。パターニングは標準的なフォトリソプロセスにより行った。得られたTFTの電界効果移動度は11.3 cm^2/Vsであり、真空成膜の酸化物TFTと同等の性能を得た。また、優れた信頼性を示し、バイアスストレス試験におけるV_thシフトは60°C 10^5秒の条件で0.2V以下と極めて小さかった。これらの結果により、独自開発した酸化物材料と塗布プロセスの優位性を示した。 |
| （英） |
We have developed original oxide materials and inks to make TFT. The original materials were doped-oxide semiconductor, high-k oxide gate insulator, and two oxide passivation layers. They were formed by spin-coating the inks and baking. Patterning was performed by standard photolithography process. The mobility of the TFT was 11.3 cm^2/Vs that was comparable to the one of vacuum-processed oxide TFT. Reliability was remarkable with /Delta V_th less than 0.2 V after 10^5 seconds under bias-temperature stress at 60 °C. These results showed the advantages of our materials and the solution process. |
| キーワード |
（和） |
酸化物TFT / 塗布 / プリンテッドエレクトロニクス / 信頼性 / / / / |
| （英） |
Oxide TFT / Solution Process / Printed Electronics / Reliability / / / / |
| 文献情報 |
映情学技報, vol. 41, no. 7, IDY2017-23, pp. 23-27, 2017年2月. |
| 資料番号 |
IDY2017-23 |
| 発行日 |
2017-02-17 (IDY) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 1342-6893 Online edition: ISSN 2424-1970 |
| PDFダウンロード |
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| 研究会情報 |
| 研究会 |
IDY |
| 開催期間 |
2017-02-24 - 2017-02-24 |
| 開催地（和） |
機械振興会館 |
| 開催地（英） |
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） |
ディスプレイ材料・製造技術シンポジウム |
| テーマ（英） |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
IDY |
| 会議コード |
2017-02-IDY |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
独自の塗布型材料を用いた高信頼性酸化物TFT |
| サブタイトル（和） |
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| タイトル（英） |
Highly Reliable Oxide TFT with Original Solution-Processed Materials |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
酸化物TFT / Oxide TFT |
| キーワード(2)（和/英） |
塗布 / Solution Process |
| キーワード(3)（和/英） |
プリンテッドエレクトロニクス / Printed Electronics |
| キーワード(4)（和/英） |
信頼性 / Reliability |
| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
平野 由希子 / Yukiko Hirano / ヒラノ ユキコ |
| 第1著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
草柳 嶺秀 / Minehide Kusayanagi / クサヤナギ ミネヒデ |
| 第2著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
新江 定憲 / Sadanori Arae / アラエ サダノリ |
| 第3著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
早乙女 遼一 / Ryoichi Saotome / サオトメ リョウイチ |
| 第4著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
曽根 雄司 / Yuji Sone / ソネ ユウジ |
| 第5著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
松本 真二 / Shinji Matsumoto / マツモト シンジ |
| 第6著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） |
中村 有希 / Yuki Nakamura / ナカムラ ユウキ |
| 第7著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） |
安藤 友一 / Yuichi Ando / アンドウ ユウイチ |
| 第8著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） |
植田 尚之 / Naoyuki Ueda / ウエダ ナオユキ |
| 第9著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） |
山田 勝幸 / Katsuyuki Yamada / ヤマダ カツユキ |
| 第10著者 所属（和/英） |
株式会社リコー (略称： リコー)
Ricoh Company, LTD. (略称： Ricoh) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第11著者 所属（和/英） |
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| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第12著者 所属（和/英） |
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| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第13著者 所属（和/英） |
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| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第14著者 所属（和/英） |
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| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第15著者 所属（和/英） |
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| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第20著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第22著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第23著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第24著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第25著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第26著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第27著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第28著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第30著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第31著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第32著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第33著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第34著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第35著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第36著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第36著者 所属（和/英） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2017-02-24 15:55:00 |
| 発表時間 |
30分 |
| 申込先研究会 |
IDY |
| 資料番号 |
IDY2017-23 |
| 巻番号（vol） |
vol.41 |
| 号番号（no） |
no.7 |
| ページ範囲 |
pp.23-27 |
| ページ数 |
5 |
| 発行日 |
2017-02-17 (IDY) |