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講演抄録／キーワード
講演名 2016-01-28 15:04
プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 ～ プラズマ処理時の基板バイアスの効果 ～
○曲　勇作・戸田達也・牧野久雄・古田　守（高知工科大）
抄録 （和） (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IEICE-EID IDY IEE-EDD SID-JC IEIJ-SSL  
開催期間 2016-01-28 - 2016-01-29 
開催地（和） 富山大学 
開催地（英） Toyama Univ. 
テーマ（和） 発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 
テーマ（英） Joint Meeting of Emissive / Non-Emissive Displays 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-EID 
会議コード 2016-01-EID-IDY-EDD-JC-SSL 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 
サブタイトル（和） プラズマ処理時の基板バイアスの効果 
タイトル（英） Plasma treatment for source/drain regions of self-aligned InGaZnO thin-film. 
サブタイトル（英） Effects of substrate bias during the plasma treatment of IGZO. 
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 曲 勇作 / Yusaku Magari / マガリ ユウサク
第1著者 所属（和/英） 高知工科大学 (略称： 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称： Kochi Univ. of Technol.)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） 戸田 達也 / Tatsuya Toda / トダ タツヤ
第2著者 所属（和/英） 高知工科大学 (略称： 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称： Kochi Univ. of Technol.)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 牧野 久雄 / Hisao Makino / マキノ ヒサオ
第3著者 所属（和/英） 高知工科大学 (略称： 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称： Kochi Univ. of Technol.)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 古田 守 / Mamoru Furuta / フルタ マモル
第4著者 所属（和/英） 高知工科大学 (略称： 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称： Kochi Univ. of Technol.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-01-28 15:04:00 
発表時間 8分 
申込先研究会 IEICE-EID 
資料番号  
巻番号（vol） vol.40 
号番号（no）  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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