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講演抄録／キーワード
講演名 2011-01-29 09:55
低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
○松田時宜・古田　守・平松孝浩・古田　寛・平尾　孝（高知工大）
抄録 （和） (まだ登録されていません) 
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文献情報 映情学技報
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研究会情報
研究会 IDY IEICE-EID IEE-EDD IEIJ-OMD  
開催期間 2011-01-28 - 2011-01-29 
開催地（和） 高知工科大学 
開催地（英） Kochi University of Technology 
テーマ（和） 発光型／非発光型ディスプレイ 
テーマ（英） Emissive/Non-Emissive Displays 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-EID 
会議コード 2011-01-EID-IDY-EDD-OMD 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） Deposition of Insulator Film with New Facing Electrodes CVD for Low Temperature Devices 
サブタイトル（英）  
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 松田 時宜 / Tokiyoshi Matsuda / マツダ トキヨシ
第1著者 所属（和/英） 高知工科大学 (略称： 高知工大)
Kochi University of Technology (略称： Kochi Univ. of Technol.)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） 古田 守 / Mamoru Furuta / ふるた まもる
第2著者 所属（和/英） 高知工科大学 (略称： 高知工大)
Kochi University of Technology (略称： Kochi Univ. of Technol.)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 平松 孝浩 / Takahiro Hiramatsu / ひらまつ たかひろ
第3著者 所属（和/英） 高知工科大学 (略称： 高知工大)
Kochi University of Technology (略称： Kochi Univ. of Technol.)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 古田 寛 / Hiroshi Furuta / ふるた ひろし
第4著者 所属（和/英） 高知工科大学 (略称： 高知工大)
Kochi University of Technology (略称： Kochi Univ. of Technol.)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） 平尾 孝 / Takashi Hirao / ひらお たかし
第5著者 所属（和/英） 高知工科大学 (略称： 高知工大)
Kochi University of Technology (略称： Kochi Univ. of Technol.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-01-29 09:55:00 
発表時間 5分 
申込先研究会 IEICE-EID 
資料番号  
巻番号（vol） vol.35 
号番号（no）  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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